一、電子芯片清洗用超純水設(shè)備-50T/H概述
電子芯片清洗用超純水設(shè)備-50T/H的產(chǎn)水量是每小時50噸,出水水質(zhì)滿足工業(yè)清洗行業(yè)用水要求。電子芯片清洗用超純水設(shè)備主要由超濾設(shè)備、反滲透設(shè)備、離子交換設(shè)備、EDI裝置等組合而成。

二、電子芯片清洗用超純水設(shè)備-50T/H的優(yōu)勢分析
1、工藝的設(shè)計細微周到,元件的材質(zhì)、性能、設(shè)計的流量、流速、壓力等均符合國家的標準規(guī)范及國外材料商的規(guī)定要求。
2、制水過程高度自動化,自動進水,自動制水,純水箱滿水自動停機,用水后自動恢復,可實現(xiàn)無人值守的運行。
3、可選用可編程控制(PLC),計算機觸摸屏控制,遠程數(shù)據(jù)采集及監(jiān)控等*技術(shù),使產(chǎn)品更具現(xiàn)代化特色。

三、電子芯片清洗用超純水設(shè)備-50T/H的工藝流程
1、采用兩級反滲透方式,其流程如下:
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→級反滲透 →PH調(diào)節(jié)→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點。
2、采用EDI方式,其流程如下:
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點。
3、采用離子交換方式,其流程如下:
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點。

四、電子芯片清洗用超純水設(shè)備-50T/H的技術(shù)指標
(1) 脫鹽率大于99.9%,效率遠遠高于兩級反滲透和單純的離子交換。
(2) 較傳統(tǒng)的離子交換法脫鹽節(jié)約樹脂95%以上。
(3) 離子交換樹脂不需使用酸堿再生,節(jié)約大量酸堿和清洗用水,降低勞動強度。
(4) 清潔生產(chǎn),無廢水處理問題,利于環(huán)保。
(5) 自動化程度高,易維護,可設(shè)計成完善的膜技術(shù)高純水生產(chǎn)線。
(6) 產(chǎn)水電阻率15-18MΩ.cm,pH 6.5-7.0,硅<1.0ppb,無菌。
(7) 占地面積小,單一系統(tǒng)連續(xù)運轉(zhuǎn),不需建設(shè)備用系統(tǒng)。

五、電子芯片清洗用超純水設(shè)備-50T/H的水質(zhì)指標
型號 | 電阻率 | 氧化矽 | 重金屬 | KMnO4 | 鈉 | 氨 | 微生物 | PH值 |
CAP-Ⅰ | ≥10 | 0.01 | 0.01 | 60 | 0.1 | 0.1 | 微少 | 6-7 |
CAP-Ⅱ | 0.5 | 0.01 | 0.01 | 60 | 0.01 | 0.01 | 微少 | 6-7 |
CAP-Ⅲ | 0.2 | 0.01 | 0.01 | 60 | 0.1 | 0.1 | 微少 | 6-7 |
NCCLS | ≥10 | 0.05 | —— | —— | —— | —— | 10 | —— |
電子芯片清洗用超純水設(shè)備運行穩(wěn)定,耗能低,產(chǎn)水水質(zhì)符合國家相關(guān)水質(zhì)標準。萊特萊德作為專業(yè)的水處理設(shè)備生產(chǎn)廠家,我們生產(chǎn)的超純水設(shè)備具有專業(yè)的技術(shù)優(yōu)勢和可靠性。萊特萊德是集設(shè)計、制造、銷售于一體的大型水處理生產(chǎn)廠家,我們售后服務好,品質(zhì)有保證,歡迎廣大用戶光臨選購。