一、光學(xué)元器件微透鏡陣列定制加工項(xiàng)目如下

1)玻璃非球面透鏡



非球面透鏡可以解決目前球面鏡片所帶了的畸變和像差，也可以減少成像系統(tǒng)的體積，提高系統(tǒng)的整體成像質(zhì)量。已被廣泛應(yīng)用于醫(yī)療設(shè)備、精密儀器、航空航天、國防科技等重要領(lǐng)域，代表了鏡片發(fā)展的趨勢。

可加工材料包括：融石英、微晶玻璃、碳化硅（陶瓷）、高分子聚合物

晶體材料（鍺、硒化鋅、氟化鎂等）

口徑：1,000mm

加工面型精度可達(dá)：（P-V）1/20λ

加工表面粗糙度可達(dá)RMS：0.3nm




2)金屬反射鏡



大口徑金屬反射鏡可實(shí)現(xiàn)各種光束收集、光束準(zhǔn)直和光束聚焦，被廣泛應(yīng)用于天體觀測光學(xué)裝置、光譜檢測、天文望遠(yuǎn)系統(tǒng)、瞄準(zhǔn)儀、擴(kuò)束鏡、紅外系統(tǒng)、聚光太陽能系統(tǒng)，投影系統(tǒng)以及發(fā)射/探測設(shè)備等領(lǐng)域。

目前的金屬反射鏡加工主要集中在6英寸（150mm）以內(nèi)，我司口徑達(dá)到20英寸（500mm），處于國內(nèi)水平。

可加工材料包括：航空鋁、銅、鋼（鍍鎳）、合金

口徑可達(dá)：500mm

加工面型精度可達(dá):（P-V）1/4λ

加工表面粗糙度可達(dá)： 2nm




3)奇異光學(xué)



傳統(tǒng)的光學(xué)加工僅能針對(duì)平面、球面、部分非球面進(jìn)行相應(yīng)面型加工，而奇異光學(xué)的發(fā)展突破了光學(xué)加工的瓶頸，可以針對(duì)不同光學(xué)表面面型進(jìn)行高精度、高效率、大尺寸的加工，是目前光學(xué)零件的發(fā)展方向。

目前，我司生產(chǎn)的奇異光學(xué)元器件已被廣泛應(yīng)用于科學(xué)儀器、集成電路、天文望遠(yuǎn)等領(lǐng)域。產(chǎn)品具有大尺寸、高精度、面型復(fù)雜等特點(diǎn)。

二、光學(xué)元器件微透鏡陣列定制加工

?（一）Precitech Nanoform 250 Ultragrind

特征用途：

新型Nanoform 250 Ultragrind是一臺(tái)四軸自由曲面超精密金剛石車床。其特殊的研磨系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)硬質(zhì)材料的超精密加工。可用于平面、球面、非球面等各類面型的超精密加工。




性能參數(shù)：

1、行程：X—220 mm (8.6"), Z—220 mm (8.6"),C—360°, B—360°

2、(SPDT)面形精度 (P-V)：≤ 0.1 μm；表面粗糙度 (Ra)：≤1.5 nm

(研磨)面形精度 (P-V)：≤ 0.15 μm；表面粗糙度 (Ra)：≤5 nm

3、程序分辨率：0.1 nm

4、反饋系統(tǒng)分辨率：0.016 nm




（二）Moore Nanotech 250UPL




特征用途：

Nanotech 250UL三軸超精密車削金剛石車床，適用于生產(chǎn)非球面及自由面的光學(xué)元件，也可以加工其它超精密機(jī)械元件。可用于各種材料的光學(xué)鏡片模具，光學(xué)透鏡和反射鏡，微陣列和微結(jié)構(gòu)器件等制造。




性能參數(shù)：

1、回轉(zhuǎn)直徑：10"(250 mm)

2、行程：X—200 mm， Z—200 mm，C—360°

3、程序分辨率: 0.01 nm

4、形精度（P-V）：≤0.1 µm

5、表面粗糙度（Ra）：≤2 nm

6、已配備快刀伺服FTS系統(tǒng)、光學(xué)對(duì)刀裝置和非球面程序生成軟件等。




（三）Moore Nanotech 350FG



特征用途：

Nanotech 350FG五軸超精密車削金剛石車床，特別用于生產(chǎn)大口徑對(duì)稱和非對(duì)稱，以及自由面的光學(xué)元件，也可以加工其它超精密機(jī)械元件。可加工各種材料的光學(xué)鏡片模具，光學(xué)透鏡和反射鏡，微陣列和微結(jié)構(gòu)器件，接觸式眼鏡和漸變眼鏡，f-θ透鏡，各種顯示屏和照明屏等。




性能參數(shù)：

1、行程：X—350 mm, Y—150 mm, Z—300 mm,C—360°, B—360°；

2、程序分辨率: 0.01 nm

3、反饋速率：1500 mm/min

4、C軸分辨率：0.06 arc-second

5、面形精度（P-V）：≤0.15 µm

6、表面粗糙度（Ra）：≤3 nm

7、已配備光學(xué)對(duì)刀裝置和非球面程序生成軟件等。