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離子研磨儀 IM4000II

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離子研磨儀 IM4000II

詳細(xì)介紹

高效率的截面研磨

IM4000II配備截面研磨能力達(dá)到500 µm/h*1以上的高效率離子槍。因此，即使是硬質(zhì)材料，也可以高效地制備出截面樣品。

*1
在加速電壓6 kV下，將Si片從遮擋板邊緣突出100 µm并加工1小時(shí)的深度

微信圖片_20230203220403.png 樣品：Si片（2 mm厚）
加速電壓：6.0 kV
擺動(dòng)角度：±30°
研磨時(shí)間：1小時(shí)

截面研磨時(shí)如果擺動(dòng)的角度發(fā)生變化，加工的寬度和深度也會(huì)發(fā)生變化。下圖為Si片在擺動(dòng)角度為±15°下進(jìn)行截面研磨后的結(jié)果。除擺動(dòng)角度以外，其他條件與上述加工條件一致。通過(guò)與上面結(jié)果進(jìn)行對(duì)比后，可發(fā)現(xiàn)加工的深度變深。
對(duì)于觀(guān)察目標(biāo)位于深處的樣品來(lái)說(shuō)，能夠?qū)悠愤M(jìn)行更快速的截面研磨。

微信圖片_20230203220407.png 樣品：Si片（2 mm厚）
加速電壓：6.0 kV
擺動(dòng)角度：±15°
研磨時(shí)間：1小時(shí)