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北京培科創(chuàng)新技術(shù)有限公司
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更新時(shí)間：2024-02-20 19:47:22瀏覽次數(shù)：98次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 紡織服裝機(jī)械網(wǎng)此設(shè)備在國(guó)際上屬于基于聚合物筆光刻(PPL)技術(shù)的納米制造系統(tǒng)，PPL技術(shù)是美國(guó)Tera-print公司的技術(shù)。
簡(jiǎn)介︰
聚合物筆無(wú)掩模光刻納米制造系統(tǒng)（polymer pen lithography）聚合物筆納米無(wú)掩模光刻制造系統(tǒng)PPL, 使用可達(dá)160000筆尖的陣列，采用蘸筆光刻DPN的方式，將待沉積的材料（墨水）浸蘸在筆尖陣列上，筆尖可控的與基底表面接觸，從而在基底表面批量成型所需圖案，加工納米微米圖案無(wú)需光掩膜，且在平方厘米范圍內(nèi)達(dá)到200納米以下的分辨率，可應(yīng)用于納米粒子合成，蛋白陣列，單細(xì)胞排布，納米電路構(gòu)造、生物芯片、化學(xué)檢測(cè)、微尺度催化反應(yīng)、分子馬達(dá)等領(lǐng)域。此設(shè)備在國(guó)際上屬于基于聚合物筆光刻(PPL)技術(shù)的納米制造系統(tǒng)，PPL技術(shù)是美國(guó)Tera-print公司的技術(shù)。
主要特點(diǎn)
- 高分辨率，可達(dá)低于100nm的分辨率；
- 高通量模式，可達(dá)160000針尖輸出制作結(jié)構(gòu)；
- TERA-FAB M系列可制作厘米級(jí)材料尺寸；
- 無(wú)需掩模，即時(shí)性改變輸出機(jī)構(gòu)，可廣泛適應(yīng)軟質(zhì)和硬質(zhì)材料；
- 軟硬件友好，非專業(yè)人士可在幾小時(shí)培訓(xùn)后，熟練使用。
A）一張4英寸的PPL陣列，有1100萬(wàn)支筆尖。
B）陣列內(nèi)納米尺度彈性材料的掃描電子顯微照片及內(nèi)嵌圖像；
C）由PPL技術(shù)打印的多種蛋白示意圖。各針尖陣列蘸上不同的打印墨水（蛋白）；
D）熒光光學(xué)顯微圖的結(jié)果，PPL合成了多路熒光標(biāo)記蛋白的圖案。
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