當(dāng)前位置：北京環(huán)創(chuàng)科學(xué)儀器有限公司>>熱工處理設(shè)備>>LPCVD

LPCVD

返回列表頁

參考價(jià)

面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號LPCVD

品牌

廠商性質(zhì)其他

所在地北京市

在線詢價(jià) 收藏產(chǎn)品查看聯(lián)系電話

紡織服裝機(jī)械網(wǎng)采購部電話：0571-88918531QQ:2568841715

聯(lián)系方式：查看聯(lián)系方式

更新時(shí)間：2024-11-22 16:40:00瀏覽次數(shù)：61次

聯(lián)系我時(shí)，請告知來自紡織服裝機(jī)械網(wǎng)

產(chǎn)品分類 品牌分類

  熱工處理設(shè)備

全部產(chǎn)品列表

暫無信息

北京環(huán)創(chuàng)科學(xué)儀器有限公司

經(jīng)營模式：其他

商鋪產(chǎn)品：97條

所在地區(qū)：北京北京市

詢價(jià) 給他留言

產(chǎn)品簡介

詳細(xì)說明生產(chǎn)的系列熱工設(shè)備：【LPCVD產(chǎn)品簡介】LPCVD是用加熱的方式在低壓條件下使氣態(tài)化合物在基片表面反應(yīng)并淀積形成穩(wěn)定固體薄膜

詳細(xì)介紹

詳細(xì)說明

生產(chǎn)的系列熱工設(shè)備：

【LPCVD產(chǎn)品簡介】

LPCVD是用加熱的方式在低壓條件下使氣態(tài)化合物在基片表面反應(yīng)并淀積形成穩(wěn)定固體薄膜。由于工作壓力低.氣體分子的平均自由程和擴(kuò)散系數(shù)大，故可采用密集裝片方式來提高生產(chǎn)率，并在襯底表面獲得均勻性良好的薄膜淀積層。LPCVD 用于淀積Poly-Si、Si₃N₄、SiO₂、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體集成電路、電力、電子、光電子及MEMS等行業(yè)的生產(chǎn)工藝中。

【產(chǎn) 品特點(diǎn)】

◆對工藝時(shí)間、溫度、氣體流量、閥門動作、反應(yīng)室壓力實(shí)現(xiàn)自動控制。

◆采用進(jìn)口壓力控制系統(tǒng)，閉環(huán)控制，穩(wěn)定性強(qiáng)。

◆采用進(jìn)口耐腐蝕不銹鋼管件、閥門，確保氣路氣密性。

◆具有完善的報(bào)警功能及安全互鎖裝置。

◆具有良好的人機(jī)界面，靈活的工藝性能。

◆采用工控機(jī)技術(shù)，具有可靠地恒壓調(diào)整控制功能。

【主要技術(shù)指標(biāo)】

●適用硅片尺寸： 4~6"

●工作溫度及精度： 350 ~ 1000℃±1℃

●恒溫區(qū)長度：700mm （可根據(jù)用戶需要設(shè)計(jì)）

●升溫速率：0 ~ 15℃/分鐘可調(diào)