設(shè)備概述
FSEM系列噴金噴碳一體機(jī)適用于常規(guī)SEM和TEM分析。該設(shè)備是全自動系統(tǒng),從而使操作變得極為簡便。秉承人體工學(xué)設(shè)計(jì)理念的同時(shí),緊湊的外觀設(shè)計(jì)和更小的桌面占用面積為您大大節(jié)約了實(shí)驗(yàn)室空間。儀器為全閉環(huán)真空設(shè)計(jì),配有全量程皮拉尼真空計(jì)等多個(gè)傳感器實(shí)時(shí)監(jiān)控運(yùn)行狀態(tài),保證儀器安全穩(wěn)定運(yùn)行。采用高性能旋葉真空泵,快速獲得<1Pa的真空環(huán)境,高精度的電源采用恒流控制,鍍膜更純,膜厚更準(zhǔn),結(jié)果重復(fù)性更好。
產(chǎn)品特點(diǎn)
◇ 設(shè)計(jì)美觀,操作簡單,界面友好、一鍵鍍膜
◇ 雙靶位設(shè)計(jì),可實(shí)現(xiàn)導(dǎo)電金屬或碳涂層
◇ 采用抽大樣品倉,可進(jìn)行快速制樣,樣品臺可預(yù)傾斜及旋轉(zhuǎn),旋轉(zhuǎn)可調(diào)
◇ 可直接放置16個(gè)標(biāo)準(zhǔn)釘型樣品臺,無需工作人員介入,節(jié)省人力和時(shí)間
◇ 采用ARM架構(gòu),全自動控制,控制精度高,操作簡單
◇ 低電壓,穩(wěn)定真空環(huán)境,可濺射多種常用金屬金、鉑、鈀、銀等
◇ 濺射顆??蛇_(dá)納米級別,濺射顆粒<5nm制備薄膜致密,適合高分辨SEM使用
◇ 采用磁控濺射技術(shù),利用平面磁場減少溫度的變化,適用于溫度敏感樣品
◇ 低電壓,穩(wěn)定真空環(huán)境,可適配多種規(guī)格碳材料0.8、1.2、2.4及碳棒等
◇ 采用脈沖電源技術(shù),利用V型結(jié)構(gòu),更好的碳繩利用率,制備更薄的導(dǎo)電膜層
◇ 配有多個(gè)傳感器實(shí)時(shí)監(jiān)控運(yùn)行狀態(tài),保證儀器使用安全
◇ 長期運(yùn)行,穩(wěn)定可靠,無需特殊維護(hù)
◇ 具備開關(guān)機(jī)數(shù)據(jù)存儲記憶,修復(fù)長期應(yīng)用偏差
◇ 儀器可全自動控制,更方便用戶實(shí)現(xiàn)各種自動化控制操作
◇ 軟件遵循GMP規(guī)范,方便實(shí)現(xiàn)用戶管理,使用記錄等功能
技術(shù)參數(shù)
設(shè)備型號 | FSEM AC200 |
濺射類型 | 低壓磁控平面濺射 |
靶材尺寸 | 雙靶位靶材,靶材直徑32mm,V型碳繩結(jié)構(gòu) |
控制模式 | 5寸觸摸屏全自動程序控制 |
真空系統(tǒng) | 機(jī)械旋葉泵,極限真空<1Pa真空抽速1L/s |
真空測量 | 全量程皮拉尼數(shù)字真空計(jì) |
工作真空 | 2-8Pa,真空精度可達(dá)0.1Pa |
樣品臺 | 可升降傾斜旋轉(zhuǎn),可放置16個(gè)標(biāo)準(zhǔn)釘型臺,直徑可達(dá)10mm |
濺射電源 | 恒流磁控DC濺射電源300-600V,Max50mA控制精度可達(dá)1mA |
濺射時(shí)間 | ≤600s,控制精度1s |
蒸發(fā)電源 | 恒壓脈沖DC蒸發(fā)電源0-80A,Max 10V控制精度可達(dá)0.1V |
脈沖頻率 | 100ms-1s,具備預(yù)熱除氣功能 |
真空腔室 | φ160×120mm |
供電要求 | 200-240VAC 50Hz,功率1500W |
外形尺寸 | 520×360×380mm |
配置清單
序號 | 名稱 | 規(guī)格 | 數(shù)量 |
1. | 噴金噴碳一體機(jī)主機(jī) | FSEM AC200 | 1臺 |
2. | 濺射靶材金靶 | 32×0.1mm | 1個(gè) |
3. | 高純碳繩 | φ0.8×1m | 1個(gè) |
4. | 真空管路 | KF16-1.2m | 1根 |
5. | 機(jī)械真空泵 | VRD-4 | 1臺 |
6. | 合格證、保修卡、說明書、裝箱單 | / | 1套 |