關(guān)鍵詞：RIE、RIBE、反應(yīng)離子束刻蝕、CAIEB、化學(xué)輔助離子束刻蝕、

                過渡金屬、磁性材料、MRAM、GMR、TMR、Pt、Cu、TeGe、PZT

型號：MU700S;    產(chǎn)地：歐洲；  

應(yīng)用：過渡金屬, PZT, 磁性材料(MRAM, GMR, TMR), Pt, Cu, TeGe 等;

代表性用戶：法國科學(xué)研究中心（CNRS）、意法半導(dǎo)體（ST）

RFICP源：束徑可達(dá) 220 mm

采用分子泵或低溫泵+干泵組合真空系統(tǒng)

均勻性：+/- 5%  on 290 mm襯底

水冷樣品臺，襯底尺寸可達(dá)直徑300mm

樣品臺可以傾斜和旋轉(zhuǎn)

配套SIMS用于刻蝕監(jiān)控

配置Load Lock