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日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了電磁管電極，能夠限度地減輕對(duì)樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的樣品直徑：60 mm日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的樣品高度：20 mm特點(diǎn)：采用LCD觸摸屏，可以更加簡(jiǎn)便地設(shè)定加工條件可處理較厚或較大的樣品...
日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了電磁管電極，能夠限度地減輕對(duì)樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。
日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的樣品直徑：60 mm
日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的樣品高度：20 mm
特點(diǎn)：
采用LCD觸摸屏，可以更加簡(jiǎn)便地設(shè)定加工條件
可處理較厚或較大的樣品(選配件)
記憶功能可存儲(chǔ)常用加工條件
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